光刻胶这玩意儿，关键就看三点：灵不灵、分不分得清、边儿齐不齐！
灵敏度——说白了就是怕不怕光。越怕光（灵敏度高），一点点紫外光就能反应，省时间、提效率；但太敏感了容易糊，细节就拉垮。
分辨率——就是能刻多细！线宽、间距，越小越好。理论上跟光的波长和光刻机镜头有关（公式咱不念了，记不住）。简单说：灵和细是跷跷板，这边高了那边就低。
对比度——看边缘利不利索。高对比度像美工刀，轻轻一照，边界咔咔清楚，适合做精细电路；低对比度像钝剪刀，得使劲儿照才出效果，适合做大块图案。胶涂薄点，对比度和分辨率还能一起涨～一般值在0.9–2.0之间。
再唠唠正胶和负胶：
?负胶：照过光的地方变硬留着，没照的洗掉——耐操但糙，适合粗线条；
?正胶：照过光的地方反而溶掉，留的是阴影部分——更细更准，芯片主力选手！
（配图：一张光刻胶显影效果对比图，懂的都懂）
灵敏度——说白了就是怕不怕光。越怕光（灵敏度高），一点点紫外光就能反应，省时间、提效率；但太敏感了容易糊，细节就拉垮。
分辨率——就是能刻多细！线宽、间距，越小越好。理论上跟光的波长和光刻机镜头有关（公式咱不念了，记不住）。简单说：灵和细是跷跷板，这边高了那边就低。
对比度——看边缘利不利索。高对比度像美工刀，轻轻一照，边界咔咔清楚，适合做精细电路；低对比度像钝剪刀，得使劲儿照才出效果，适合做大块图案。胶涂薄点，对比度和分辨率还能一起涨～一般值在0.9–2.0之间。
再唠唠正胶和负胶：
?负胶：照过光的地方变硬留着，没照的洗掉——耐操但糙，适合粗线条；
?正胶：照过光的地方反而溶掉，留的是阴影部分——更细更准，芯片主力选手！
（配图：一张光刻胶显影效果对比图，懂的都懂）