中国当前光刻机处于怎样的水平-爱科技问答

智能回答

中国当前光刻机处于怎样的水平

展开

没找到满意答案？去问豆包AI智能助手

取消复制问题

rionhyde

我一个在半导体设备厂做工艺支持的朋友说，现在国内晶圆厂用的主力还是Nikon和Canon的DUV机台，但上海微电子的SSX600系列已经进了一些特色工艺产线，比如功率器件、MEMS传感器这些对线宽要求不那么极致的领域；更关键的是国产化配套在加速——科益虹源的KrF光源、启尔机电的浸没系统、国望光学的反射镜都开始小批量供货了，整机不是单点突破而是生态协同，就像当年高铁一样，可能再熬五到八年，28nm全自主产线会成为现实，别总拿EUV当唯一标尺
060322

说实话，咱得实事求是，目前中国光刻机跟ASML那种EUV顶级水平差距还是挺大的，上海微电子的SSA600系列最多做到90nm工艺，部分成熟制程比如28nm浸没式光刻机据说在攻关中但还没大规模量产商用，不过别光盯着卡脖子看——中芯国际靠多重曝光+国产DUV也能稳定产出14nm芯片，而且整个光刻产业链像光源、物镜、双工件台这些子系统这几年进步飞快，合肥、北京好几个团队都在啃硬骨头，慢是慢了点，但真没停步
handonglei12345

中高级水平。因为中国已经自主研发了14纳米的光刻机，而且正在向荷兰靠拢，所以中国目前光刻机处于中高级的水平。
330865515

中国目前的光刻机处于世界一般水平，光刻机的质量还有待提升，而且呈现出来最终的效果，也是差强人意，需要投入科研力量进行研发。
dsxucmroyikf

设计能力其实不差，清华、哈工大做的光学系统仿真和控制算法都发过顶刊，问题主要在精密制造——比如镜面平整度要达到原子级，真空环境振动控制比手术室还严，还有极紫外光源功率稳定性这些细节，不是光靠砸钱就能速成的；好在国家大基金持续输血，去年长光所宣布193nmArF光刻机整机集成验证成功，虽然离ASML的NA=33还有距离，但至少证明技术路线走通了

中国当前光刻机处于怎样的水平

最新回答更多>

相关问答

热门推荐

中国当前光刻机处于怎样的水平

最新回答 更多>

相关问答

热门推荐

最新回答更多>