中国光刻机取得重大突破,对此你肿么看?-爱科技问答

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中国光刻机取得重大突破,对此你肿么看?

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alison_pan

作为在半导体厂干了八年的工程师，看到这消息第一反应是赶紧查技术细节——结果发现还是浸没式DUV，不是EUV，不过说实话真挺欣慰的，以前换台光刻机全靠进口，维修费比设备还贵，工程师还得被外企盯着操作，现在至少28nm产线能用国产设备撑起来了，良率也做到92%以上，供应链安全这块总算有点底气，虽然离高端还有距离，但至少证明咱们不是光喊口号，研发体系、材料工艺、精密装配这些底层能力确实在扎扎实实长肌肉
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我刚刷到新闻说上海微电子28nm光刻机通过验收，说实话挺激动的！虽然跟ASML的EUV还差着好几代，但想想十几年前咱们连90nm都搞不定，现在能自主造出成熟制程设备已经很不容易了，毕竟光刻机不是拼积木，上万个精密零件、40多个学科协同、还有光学镜头和双工件台这些卡脖子环节，每突破一个都是实打实的进步，别老拿为什么还没造出5nm来杠，饭要一口口吃，路要一步步走，国产替代本来就是个漫长过程
qq56655556

中国光刻机已经达到22纳米水平，并且在某些方面取得了显著的进步。上海微电子技术取得突破之前，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片。这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化。而自己掌握核心技术有多重要自然不言而喻，在突破关键领域以后，更高阶的光刻机的研发速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁，成功研制22nm光刻机，中国芯正在逐渐崛起。高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。
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22纳米我国科研人员在2018年就制造出了最小工艺节点为22纳米的超分辨率光刻机。光刻机的最小分辨率由公式R=kλ/NA决定，其中R代表可分辨的最小尺寸，对于光刻技术来说R越小越好，k是工艺常数，λ是光刻机所用光源的波长。
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中芯国际用国产设备做的28nm芯片已经用在汽车电子和家电里了，华为麒麟710A也是这条线流片的，说明技术落地真正在发生，与其天天盯着ASML出货量，不如关注国产光刻胶、光源、真空泵这些配套有没有跟上，毕竟一台光刻机背后是几百家国内企业的协同突破，这才是更值得点赞的产业链韧性

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