光刻机曝光方式主要有：
1. 接触式：掩模紧贴晶圆，分辨率高但易损伤；
2. 接近式：掩模与晶圆微隙（几微米），良率高但衍射限制分辨率；
3. 投影式（主流）：通过光学系统缩小投影（如步进/扫描式），兼顾分辨率、套准精度与产能，支持深紫外（DUV）、极紫外（EUV）。
1. 接触式：掩模紧贴晶圆，分辨率高但易损伤；
2. 接近式：掩模与晶圆微隙（几微米），良率高但衍射限制分辨率；
3. 投影式（主流）：通过光学系统缩小投影（如步进/扫描式），兼顾分辨率、套准精度与产能，支持深紫外（DUV）、极紫外（EUV）。