光刻是微电子制造中重要的环节之一，检验光刻常规的步骤包括多个方面。
首先，调节烘烤温度是光刻常规检验的步骤之一。烘烤是光刻工艺的重要步骤之一，其温度和时间对光刻胶的性质和光刻效果有着重要的影响。因此，需要按照光刻胶的特性，准确调节烘烤温度，以保证光刻胶的性能和图案质量。
其次，调节显影时间也是光刻常规检验的重要步骤之一。显影是光刻工艺中的重要环节，其时间和温度对光刻胶的显影效果和图案质量有着直接的影响。需要按照光刻胶的特性，准确调节显影时间，以保证光刻胶的充分显影和图案质量的稳定性。
此外，调节曝光时间也是光刻常规检验的重要步骤之一。曝光是光刻工艺中的关键环节，其时间对光刻胶的灵敏度和图案质量有着重要的影响。需要按照光刻胶的特性和曝光机的特性，准确调节曝光时间，以保证光刻胶的灵敏度和图案质量的稳定性。
最后，调节显影液浓度也是光刻常规检验的重要步骤之一。显影液浓度对光刻胶的显影效果和图案质量有着直接的影响。需要按照光刻胶的特性和显影液的成分，准确调节显影液浓度，以保证光刻胶的充分显影和图案质量的稳定性。
综上所述，光刻常规检验的步骤包括调节烘烤温度、调节显影时间、调节曝光时间和调节显影液浓度。因此，答案为D、调节曝光时间。
