以当前的投入，国产光刻机还需要多久才能追上当前国际主流？-爱科技问答

智能回答

以当前的投入，国产光刻机还需要多久才能追上当前国际主流？

展开

没找到满意答案？去问豆包AI智能助手

取消复制问题

xj598190865

说实话我挺佩服那些在洁净室里熬通宵的工程师的，但理性讲，现在投入力度虽大（听说去年国家大基金三期投了3440亿），可光刻机这种皇冠上的明珠不是砸钱就能速成的，它需要材料学、真空物理、超精密控制、AI算法等二十多个学科深度咬合，咱们高校培养周期长、顶尖人才外流还没完全止住、部分核心部件如高速磁悬浮工件台仍依赖进口替代验证，再加上ASML每年还在迭代升级，相当于你刚跑完一公里，人家已飞出五公里，所以保守预估2035年前后能实现14nm稳定量产就算重大突破，真正持平3nm以下可能要等到2040年以后
joychenyue

2000i已经稳定交付5nm产线，中间隔着ArF干式、浸没式、多重曝光、EUV四代技术断层，更别说光刻胶、掩模版、量测设备这些上游配套几乎全靠进口，没有完整生态链，单点突破意义有限，就像想用国产螺丝钉造出波音787，缺的不是力气，是整套工业文明底座
benddan

我觉得这事儿真不好说具体年份，毕竟光刻机不是拼凑零件那么简单，ASML那套系统背后是德国蔡司的镜头、美国的光源、荷兰的精密装配工艺，还有几十年积累的know-how，咱们现在28nm成熟制程刚量产，DUV还在攻坚，EUV连原型机都还没公开亮相，中间还卡着极紫外光源稳定性、双工件台同步精度、光学薄膜镀膜良率一堆硬骨头，乐观估计也得十年起步，还得看每年研发投入能不能持续破百亿、高校和企业能不能真正打通产学研闭环，不然光靠情怀喊口号可造不出光刻机
lhfzbwywyp

别光盯着ASML，其实日本尼康和佳能也没停下脚步，而且国际封锁越来越严——去年出口管制新规直接卡住了14nm以下浸没式光刻机相关技术服务，这意味着咱们连抄作业的机会都被收紧了，现在上海微电子搞的不仅是技术研发，更是自主标准体系重建，从计量基准、检测方法到缺陷识别算法全得重来，光一个光学系统就要做上万次热变形模拟实验，实验室数据和晶圆厂真实环境差距巨大，所以与其问多久追上，不如关注何时能在28nm以上领域实现全链条安全可控，这个目标大概率2028年能看到实质性拐点

以当前的投入，国产光刻机还需要多久才能追上当前国际主流？

最新回答更多>

相关问答

热门推荐

以当前的投入，国产光刻机还需要多久才能追上当前国际主流？

最新回答 更多>

相关问答

热门推荐

最新回答更多>