答：光刻机（MaskAligner）是半导体工艺中用于将掩模版图形转移到硅片光刻胶上的关键设备。通过紫外光曝光，实现微细图案转移，是集成电路制造的核心环节之一。
答：光刻工艺是半导体生产的核心，涉及多个关键设备，包括掩膜版、光刻胶、光刻机、匀胶机、烘胶机、显影设备等。本文重点介绍光刻机及其曝光源，随着技术发展，曝光源波长从436nm、...
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