中国芯片巨头进口7nm光刻机受阻，那国产光刻机现状到底怎么?-爱科技问答

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中国芯片巨头进口7nm光刻机受阻，那国产光刻机现状到底怎么?

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说实话我前两天刚陪朋友去参观过无锡一家光刻机配套企业，他们做的是高精度运动平台的激光干涉仪反馈模块，负责人悄悄说现在SMEE的28nm样机在中芯国际北京厂做工艺验证，良率还不稳定，镜头像差补偿要靠软件反复迭代，ASML一台机器卖2亿欧元，咱们整机成本现在可能还压不进3亿人民币，但更关键的是整个产业链——从熔炼超低膨胀微晶玻璃到光学镀膜的纳米级均匀性，国内能闭环的环节连40%都不到，急不得，但也没躺平
q1351q

别光盯着光刻机整机啦！很多人不知道，上海微电子2023年给长鑫存储供货的110nmKrF光刻机已经跑出每月1200片晶圆的产能，虽然比ASML慢一截，但故障率控制在8%以内，够用；更硬核的是长春光机所自研的NA=75投影物镜通过了国家重大专项验收，还有清华大学团队搞的磁悬浮工件台定位精度达5nm，这些看不见的零件才是真正扎扎实实在啃骨头，整机不是拼乐高，是把几百个子系统拧成一股劲儿
wasd131433

其实吧，网上老传国产光刻机马上突破已量产7nm，真去查中科院光电所、上海微电子官网和近三年招标公告就会发现，目前通过验收并交付产线的最先进是90nmDUV步进扫描光刻机（SSA600/20），用于成熟制程芯片封装和部分功率器件，而28nm浸没式光刻机还在整机联调阶段，光源、双工件台、物镜系统等核心部件仍依赖进口替代攻关，说卡脖子缓解了还太早，但工程师们凌晨三点改光路图的照片确实不少，挺让人佩服的
wangtiejun333

没有EUV也能绕道走，就像当年两弹一星，缺啥就造啥，现在全国37家单位正联合攻关193nm浸没式光源功率提升，每天测试数据堆满三个服务器机柜

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