EUV光刻机使用和维护成本最高的部件是LPP EUV光源收集镜，其成本高昂的原因如下：
成本占比显著ASML财报显示，单台EUV光刻机年维护成本高达3000万美元，其中光源系统（以收集镜为核心）占比超40%。台积电等头部厂商反馈，收集镜更换导致的停机时间和备件库存成本显著拉高晶圆制造成本，成为客户最大痛点。不可回避的污染问题LPP EUV光源通过激光轰击锡靶产生极紫外光，过程中会生成大量高能碎片和等离子体，这些物质会沉积在收集镜表面，导致镜面污染。污染会降低收集镜的反射效率，进而影响光刻机的整体性能和稳定性。为维持光刻机正常运行，需频繁清洁或更换收集镜，显著增加了维护成本。
高频维护需求由于污染问题无法完全避免，收集镜需要定期维护。例如，ASML的EUV光刻机需每周进行一次预防性维护，其中收集镜的清洁和检测是关键环节。高频维护不仅增加了直接成本（如人工、清洁设备等），还导致光刻机停机时间延长，间接影响了晶圆厂的产能和经济效益。
制约功率升级收集镜的性能直接限制了EUV光源的功率提升。为提高光刻机分辨率和产能，需增加光源功率，但更高功率会导致收集镜表面污染加剧、热负荷升高，进而缩短其使用寿命。因此，收集镜的技术瓶颈成为EUV光刻机功率升级的主要障碍，进一步推高了其全生命周期成本。
技术复杂性与制造难度收集镜需采用多层膜反射结构（如钼-硅多层膜），以实现对13.5nm极紫外光的高效反射。其制造过程涉及超精密加工、镀膜和检测技术，技术复杂度高，良品率低，导致单件成本高昂。此外，收集镜的尺寸较大（如1米量级），进一步增加了制造和运输难度。
综上，LPP EUV光源收集镜因污染问题、高频维护需求、功率升级制约及技术复杂性，成为EUV光刻机全生命周期中成本最高的部件。